Прорыв в микроэлектронике: Россия представила первый собственный фотолитограф на 350 нм

На конференции «Микроэлектроника 2025» было подписано соглашение между Зеленоградским нанотехнологическим центром (ЗНТЦ) и компанией «Отраслевые решения» (входит в структуру «Элемента»). Документ предусматривает поставку первого российского фотолитографа, рассчитанного на производство по 350-нм техпроцессу, а также его установку и пусконаладку.

Разработка ЗНТЦ позволяет выполнять проекционное перенесение схемы с фотошаблона на полупроводниковую пластину и создавать мультипликации с нормой топологии 350 нм. Важную роль в проекте сыграло белорусское предприятие «Планар», с которым велась тесная кооперация на всех этапах.

Гендиректор ЗНТЦ Анатолий Ковалев подчеркнул, что инженеры завершили цикл разработки, подтвердили все расчетные параметры в условиях реального производства и уже начали подготовку к серийному выпуску.

Этот результат открывает путь к следующей цели — созданию полностью отечественной литографической установки с более тонкими нормами, вплоть до 90 нм.